原位氧化法制备氢化锆防氢渗透层
本文采用原位氧化法在氢化锆表面制备了氢渗透阻挡层,分析了工艺参数对氧化层生长的影响,借助XRD、XPS、SEM等分析测试手段对氧化层的物相组成和截面形貌进行分析,并对氧化层的阻氢效果进行检测.结果表明,氧化层的质量增重随氧化温度的升高而增大,在氧分压为0.1Mpa,550℃恒温氧化2h的工艺条件下,在氢化锆表面制得了厚度为50 μm～60 μm的氧化层;该氧化层主要为Baddeleyite结构的ZrO2;氧化层中含有O、Zr、C等元素并存在O-H键;氧化层均匀、致密,具有一定的阻氢作用.
氢化锆 氢渗透阻挡层 原位氧化法 氧化层
陈伟东 王力军 韩琳 张力 陈松 黄永章 罗远辉
北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所,北京,100088
国内会议
长沙
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778-782
2006-11-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）