氢化锆表面电镀铬制备防氢渗透涂层的研究
本文采用电镀铬法在氢化锆表面制备了氢渗透阻挡层,分析了电镀工艺参数对镀层生长的影响,并对镀层的阻氢效果进行检测.结果表明,镀层厚度与电流密度成正比,最佳的电流密度应控制在3.6~4.6 A·dm-2之间,镀层由颗粒状铬沉积而成,镀层具有一定的防氢渗透作用.
氢化锆 氢渗透阻挡层 稀有金属 电镀铬法
陈伟东 韩琳 王力军 尹延西 陈松 罗远辉
北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所,北京,100088
国内会议
长沙
中文
255-258
2006-11-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)