亚硫酸盐制备微型金空腔工艺的研究
本文介绍了以亚硫酸铵溶液为附加盐的镀金液制备高质量的惯性约束聚变(ICF)微型金腔的工艺条件和方法.研究了主盐浓度、温度、阴极电流密度、pH值等因素对镀液的电流效率、沉积速度和镀层质量的影响.确定工艺条件为:主盐浓度25～30 g/L,附加盐浓度600～800 mL/L,温度30～50 ℃,阴极电流密度0.1～0.2 A/dm2,pH值8～9.由此工艺所制备的微型金空腔壁厚可控范围4～50 μm,表面粗糙度0.05～0.2 μm,金层光亮致密,纯度100％.
液体亚硫酸铵 电镀 微型金空腔
周兰 万小波 肖江 张伟 任洪波
中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
国内会议
武汉
中文
227-230
2006-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）