离子轰击碳膜形成碳尖端的研究

摘要：

用CH4、NH3和H2为反应气体,利用等离子体增强热丝化学气相沉积系统在沉积有碳膜的Si衬底上制备了碳尖端.利用原子力显微镜和显微Raman光谱仪对沉积的碳膜表征的结果表明碳膜是非晶碳膜,并且粗糙不平.用扫描电子显微镜对碳尖端表征的结果表明碳尖端的形貌与偏压电流有关,即随着偏压电流的增大,碳尖端的顶角减小,高度增大.由于在碳尖端形成的过程中,既有离子的沉积又有离子的溅射,结合有关等离子沉积和溅射的理论,建立了碳尖端的形成模型,并根据模型分析了实验结果.

关键词： 碳尖端 等离子体增强 化学气相沉积 离子轰击

作者: 徐幸梓 王必本 高凤英 张力 曾丁丁

作者单位: 重庆大学材料科学与工程学院,重庆,400044 北京工业大学应用数理学院,北京,100022

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007高技术新材料产业发展研讨会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 173-175

在线出版日期: 2007-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）