碲镉汞分子束外延所用的Si衬底清洗的现状与进展

摘要：

本文综述了碲镉汞分子束外延所用的Si衬底的传统RCA清洗方法和改进的RCA清洗方法的机理、清洗特点和清洗局限.最后介绍了碲镉汞分子束外延所用的Si衬底清洗方法的进展.

关键词： Si衬底 RCA清洗 微粗糙度 各向异性 分子束外延

作者: 许秀娟

作者单位: 华北光电技术研究所,北京,100015

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年红外探测器及其在系统中的应用学术交流会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 42-45

在线出版日期: 2007-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）