铜铁纳米多层膜电化学制备及GMR性能研究

摘要：

本文采用单槽法控电位沉积技术在硅片上沉积了铜/铁纳米多层膜,测量了镀液的阴极极化曲线及电流-时间曲线,确定了沉积电位.并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,X射线衍射(XRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰,结果表明多层膜厚度均匀、连续且界面清晰,具有超晶格结构.

关键词： 纳米金属多层膜 电沉积 巨磁电阻 电化学

作者: 万小波 任洪波 涂海燕 周兰 肖江 修鹏 张伟

作者单位: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳,621900

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国电镀与精饰学术年会

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 43-44,49

在线出版日期: 2006-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）