NSRL的同步辐射X射线深度光刻技术

摘要：

本文利用合肥光源LIGA线站对同步辐射深度X射线曝光及显影工艺进行研究,获得了深度X射线曝光和显影的稳定工艺条件,得到高质量的光刻胶图形。

关键词： 深度X射线曝光 显影速率 光刻胶图形 稳定工艺

作者: 郭育华 刘刚 田扬超

作者单位: 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029

会议类型: 国内会议

会议名称: 长三角光子科技创新论坛暨2006年安徽博士科技论坛

会议地点: 合肥

会议语种:中文

页码: 221-225

在线出版日期: 2006-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）