非晶Si3N4在ZrN/Si3N4多层膜中的赝晶晶化和生长

摘要：

由两种不同材料交替沉积形成的纳米多层膜具有如硬度升高的超硬效应等物理性能和力学性能的异常变化.研究发现,某些氮化物和氧化物可以在纳米多层膜中稳定相的”模板效应”下形成亚稳相或赝晶体.例如c-AlN亚稳相可以稳定地存在于TiN/AlN纳米多层膜中,非晶态的SiO2也可以在TiN模板的作用下晶化为NaCl结构的赝晶体,并与TiN形成共格外延生长.本文研究了气相沉积态为非晶的Si3N4在ZrN模板层作用下的晶化与生长特征。

关键词： 非晶Si3N4 Si3N4多层膜 赝晶晶化 纳米多层膜 超硬效应 反应磁控溅射

作者: 刘艳 董云杉 曾豪 李戈扬

作者单位: 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年全国电子显微学会议

会议地点: 沈阳

会议语种:中文

页码: 93-94

在线出版日期: 2006-08-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）