VN/SiO2纳米多层膜的微结构特征与超硬效应
Sproul基于两种陶瓷材料以纳米量级交替沉积形成纳米多层膜时,常常会伴随有硬度异常升高的超硬效应,提出采用两种氧化物材料制备纳米多层膜的技术路线,以期通过其超硬效应达到使涂层同时具有高硬度和优良抗氧化性,满足制造业中高速、干式切削的苛刻工况要求.然而,按此技术路线制备的Al2Q3/Y2O3、ZrO2/Al2O3纳米多层膜却未能获得硬度的明显提高,两种氧化物之间的剪切模量相差不大,或是沉积时形成了非晶结构而不能满足纳米多层膜产生超硬效应的条件被认为是其未获得成功的原因.利用纳米多层膜生长中晶体层的模板作用,强制氧化物层外延晶化,从而制备共格外延生长的含氧化物纳米多层膜,可望成为一条获得兼具高硬度和高温抗氧化性薄膜的途径. VN/SiO2纳米多层膜采用ANEVA SPC-350型多靶磁控溅射仪上在Ar-N2混合气体中通过反应溅射制备.所有多层膜样品中的VN层厚均为3.6nm,SiO2层厚范围为0.45 nm～2.2 nm.本文研究VN/SiO2纳米多层膜的微结构特征与超硬效应。
纳米多层膜 微结构 超硬效应 陶瓷材料 多靶磁控溅射
赵文济 岳建岭 乌晓燕 李戈扬
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030
国内会议
沈阳
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91-92
2006-08-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）