PYREX 7740玻璃湿法刻蚀研究

摘要：

玻璃腐蚀工艺是MEMS工艺的重要方面.本文对PYREX 7740玻璃湿法刻蚀进行研究,提出了利用铬膜和光刻胶作为掩膜,进行一次光刻、多次坚膜、多次腐蚀的工艺方法.该方法可以使掩膜耐蚀时间达到200多分钟,且能腐蚀出表面平整、线条清晰的十多微米的深槽.实验还得出玻璃的腐蚀速率和温度的关系以及光刻胶的耐蚀时间和温度之间的关系.

关键词： 湿法腐蚀 玻璃腐蚀 湿法刻蚀 腐蚀速率 光刻胶

作者: 郑志霞 薛建国

作者单位: 莆田学院电信系,莆田,351100

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国仪器仪表学会第八届青年学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 1003-1004,1016

在线出版日期: 2006-07-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）