类金刚石掺杂Ti/N薄膜的制备与性能研究

摘要：

应用电弧离子镀和非平衡磁控溅射镀膜技术相结合的方法,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜.对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到Hv(25g)2000以上,摩擦系数较小,电阻高于2兆欧.

关键词： 硬质膜 DLC 非平衡磁控溅射 电弧离子镀 霍尔离子源

作者: 张以忱 于大洋 马胜歌 巴德纯

作者单位: 东北大学机械工程与自动化学院,沈阳,110004 深圳国家863计划材料表面工程研究开发中心,深圳,518029

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届真空冶金与表面工程学术会议

会议地点: 沈阳

会议语种:中文

页码: 235-239

在线出版日期: 2007-06-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）