直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜表面形貌的影响

摘要：

应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,为将来应用磁控溅射方法制备TiO2染料敏化太阳电池总结数据.通过扫描电子显微镜发现当总压强为2×10-1Pa、O2流量为15sccm、靶基距为190mm、温度为120℃的条件下,制备的TiO2薄膜的表面形貌呈现为疏松多孔的特性.因此是最有可能制备TiO2染料敏化太阳电池的工艺条件.

关键词： 直流反应磁控溅射 二氧化钛染料敏化太阳电池 表面形貌 二氧化钛薄膜

作者: 王贺权 巴德纯 沈辉 闻立时

作者单位: 沈阳航空工业学院,沈阳,110034;东北大学,沈阳,110004 东北大学,沈阳,110004 中山大学,广州,510275 中国科学院金属研究所,沈,110016

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届真空冶金与表面工程学术会议

会议地点: 沈阳

会议语种:中文

页码: 203-208

在线出版日期: 2007-06-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）