化学沉积NiHCF薄膜的电控离子交换性能研究
根据三元图谱设计方案采用毛细化学沉积法在铂和石墨基体上制备出具有电化学控制离子交换性能(ESIX)的铁氰化镍(Nickel Hexacyanoferrate，NiHCF)薄膜。在1M KNO3溶液中通过循环伏安法并结合EDS考察了制膜液组成对铂基体上NiHCF薄膜电化学行为的影响，筛选确定了具有较高电活性和适宜ESIX过程的NiHCF薄膜的制备条件；比较了铂和石墨基体上薄膜的离子选择性、离子交换容量及再生能力。研究表明，高铁组成制膜条件下生成的NiHCF薄膜的循环伏安特性曲线呈现双峰特征，薄膜中K离子含量较高；高镍组成制膜条件生成的NiHCF薄膜的循环伏安特性曲线呈现近似单峰特征而K离子含量较低。寿命和再生实验表明该方法制备出的NiHCF薄膜具有较高的电化学稳定性以及良好的再生能力。
电化学控制 离子交换性能 铁氰化镍薄膜 毛细化学沉积法
郭金霞 郝晓刚 张玫 张忠林 刘世斌
太原理工大学化学工程系,太原030024
国内会议
北京
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2005-10-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）