Al<,2>O<,3>上谷氨酸吸附和热縮合反应的漫反射红外光谱研究
采用TG-DTA、XRD 和DRIFT 等手段对谷氨酸在Al2O3 表面的吸附和热缩合反应进行了研究。结果表明,谷氨酸在Al2O3 表面的吸附位主要是Al2O3 表面的Lewis 酸位,低浓度时符合Langmuir 单层吸附模型;高浓度时为多层吸附,谷氨酸分子之间通过氢键重构形成新的晶相;吸附的谷氨酸分子和载体之间形成二齿鳌合物,200℃左右首先分子内脱水生成焦谷氨酸。
谷氨酸 氧化铝 吸附 热缩合 焦谷氨酸 氢键重构 红外光谱
郭丽红 孟明 查宇清
天津大学化工学院催化科学与工程系,天津300072
国内会议
北京
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2005-10-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)