活性聚合合成POSSCl/PMMA

摘要：

笼状结构倍半硅氧烷（POSS ）是一种无机-有机杂化物。其芯部或中心是一个由硅和氧所构成的无机骨架，外层由有机取代基R 构成。本文采用带Si-Cl 键的单功能基T －8POSS 纳米分子为种子，以甲基丙烯酸甲酯为单体进行活性聚合合成POSSCl/PMMA 复合材料。尝试了用原子转移自由基聚合（ATRP ）方法：以商品化的POSSCl 分子为引发剂，用氯化亚铜/联二吡啶催化体系，在110℃下引发甲基丙烯酸甲酯聚合，合成了POSSCl/PMMA ，解决了POSS 分子在聚合物中的单分散问题。

关键词： 笼状倍半硅氧烷 原子转移自由基聚合 甲基丙烯酸甲酯 复合材料

作者: 王文平

作者单位: 合肥工业大学, 化学工程学院应用化学系 合肥，230009

会议类型: 国内会议

会议名称: 2005年全国高分子学术论文报告会

会议地点: 北京

会议语种:中文

在线出版日期: 2005-10-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）