16厘米低能强流宽束离子源
本文介绍了一个新型16 厘米束径多会切场低能强流宽束离子源（MCLB-16）。该源在薄膜辅助沉积的能量（200-800eV）范围内，具有较好的低能特性。源的最大引出束流可达650mA。可用反应气体或惰性气体工作。气体利用率可超过80﹪。用氧气工作时，最大耗气量为14 Sccm。放电损耗在283-425eV/ion 之间。在16 厘米束径范围内，束密不均匀性小于正负百分之十。源在使用氧气时，可连续工作数十小时。该源可用于各种高性能薄膜制备的辅助沉积，也可用于制备大面积类金钢石膜（DLC）。文中介绍了该源的结构及性能。
离子源 薄膜制备 辅助沉积 结构性能
冯毓材 于梦蛟 冯隽
北京东方安泰克高技术有限公司,北京100101
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2004-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）