时间监控离子束溅射沉积光学薄膜的厚度修正
本文为了实现时间监控离子束溅射沉积光学薄膜厚度的精确控制，研究了离子束溅射沉积速率和沉积时间的关系，在单层薄膜沉积的初始阶段，对于Ta2O5，沉积速率随着沉积时间的增加而增大，沉积速率比较稳定；对于SiO2，沉积速率随时间先显著的增加，随后逐渐地减小，并且沉积速率相对不稳定。但是，经过一段时间后，这两种薄膜的沉积速率趋向恒定而不再改变。随后，通过对离子束溅射沉积多层膜的实验模拟，得到和单层膜比较一致的结论。通过对沉积时间的有效补偿，成功的制备了中心波长1315nm、反射率达到99.97﹪高质量的光学薄膜。
光学薄膜 离子束溅射 时间监控 厚度修正
刘洪祥 李凌辉 申林 熊胜明 张云洞
中科院光电技术研究所,成都四川610209
国内会议
杭州
中文
2004-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）