InP基量子阱电吸收光调制器的设计与工艺实验
本文概述了量子阱电吸收光调制器设计的整个过程,从量子阱材料设计,到器件的光波导设计和微波特性设计,并给出了使用剥离法、湿法刻蚀技术制作InP 基量子阱电吸收调制器的初步实验结果。InP 基窄带隙量子阱材料设计相对能隙较大的GaAs 量子阱材料必须考虑能带耦合效应,材料设计、光波导设计和微波特性设计是相互影响的。
量子阱 磷化铟 电吸收 光调制器 微波特性
王明华 周剑英 李锡华 周小平 江晓清
浙江大学信息与电子工程学系,杭州,310027
国内会议
杭州
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2004-04-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)