反应离子刻蚀设备的研究

摘要：

反应离子刻蚀是 20 世纪 70 年代产生的一种干法刻蚀技术，至今仍广泛应用于微细加工领域。本文基于科研和实验室应用的角度，提出了一种反应离子刻蚀机的设计方案，该设备具有较高的刻蚀分辨率和性价比。

关键词： 干法刻蚀 RIE 刻蚀分辨率 光子晶体

作者: 何小锋 单能飞 袁哓东 辛靓

作者单位: 国防科技大学光电科学与工程学院光子晶体研究中心,长沙,410073

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国光子学大会

会议地点: 黄山

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）