一种二元整形元件激光直写方法的实验研究

摘要：

为了实现具有复杂位相结构的二元光束整形元件的光刻，本文提出一种采用方光点的激光直写系统来逐点光刻浮雕位相结构的方法，通过双远心投影缩微光路获得5 - 20μ方点，光刻点尺寸对应于最小位相单元，从而实现了位相结构的高质量直写。分析了高斯光点和方点位相单元结构对二元整形元件衍射效率的影响，方形点两台阶二元整形元件的+1 级衍射效率达到31﹪，给出了实验结果。

关键词： 二元光学 衍射 位相编码 激光直写 光刻

作者: 陈林森 邵洁 王雪辉 徐兵 解剑峰 沈雁

作者单位: 教育部现代光学技术重点实验室,苏州大学信息光学工程研究所,苏州215006

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国光学学会2004年学术大会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）