自动控制离子束溅射沉积光学薄膜系统设计
本文利用射频离子源RF-2001 控制器USER INTERFACE 接口具有遥控开关控制的功能，采用继电器控制输出及开关量隔离输入卡DAC-7325E，实现了计算机对离子源的程序控制。由于离子源具有长期运行非常稳定的优良特性，薄膜的沉积速率比较稳定，通过控制时间实现离子束溅射沉积光学薄膜厚度的监控。结合设备自身的特点，通过光电传感器对靶转动定位、行星转动系统的监控，在IBSD-1000 型离子束溅射镀膜系统上，首次成功地实现了单、双离子束溅射沉积镀膜过程的自动化控制。控制软件采用VB 编程，程序控制界面直观、易于操作。
光学薄膜 离子束溅射 镀膜过程 时间监控 光电传感器
刘洪祥 李凌辉 申林 熊胜明 张云洞
中科院光电技术研究所,成都四川610209
国内会议
杭州
中文
2004-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）