VHF-PECVD技术制备大面积硅基薄膜的研究

摘要：

在用VHF-PECVD 技术沉积大面积硅基薄膜中，最主要的问题是大面积的均匀性，而影响薄膜均匀性的主要因素是电极上电场分布的均匀性。本文对VHF 频段电场分布进行了分析，认为当激发频率在VHF 频段时驻波和损耗波对电场均匀性分布影响很大，而通过选择不同的电源馈入方式可以减小它们的影响，所以电源馈入方式是解决问题的关键。根据实际情况，本文采用中心馈入法，对馈线和电极的连接方式进行了仔细研究，并通过工艺调试，研制出了面积为23×24cm2，最高沉积速率5.5./s，不均匀性<±10％的非晶硅薄膜材料。

关键词： 硅基薄膜 电源馈入 电场分布 薄膜材料

作者: 王凯杰 薛俊明 张建新 孙建 任慧志 张德坤 赵颖 耿新华

作者单位: 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 天津300071；光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室；光电信息技术科学教育部重点实验室 河北工业大学材料学院 300130

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛

会议地点: 深圳

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）