中频磁控溅射制备ZnO:Al透明导电薄膜

摘要：

ZnO:Al薄膜的电学和光学特性与溅射时的氧含量和衬底温度有关，本文以2％的Al 掺杂的Zn（纯度99.99％）金属材料作靶，采用中频磁控溅射技术研究了氧氩比、衬底温度对薄膜电阻率、透过率的影响，获得了适合薄膜太阳能电池要求的透明导电薄膜，其电阻率为5.57×10-4Ωcm，载流子浓度2.2×1020cm-3，霍尔迁移率40.1cm2/V·s，可见光范围内（400～800nm）的平均透过率大于85％。

关键词： 薄膜制备 衬底温度 磁控溅射 薄膜太阳能电池 导电薄膜

作者: 刘金彪 薛俊明 徐步衡 周祯华 孙建 赵颖 耿新华

作者单位: 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室 光电信息技术科学教育部重点实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛

会议地点: 深圳

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）