衬底温度对微晶硅薄膜结构的影响及其稳定性研究

摘要：

本文采用VHF-PECVD 技术制备了不同衬底温度的微晶硅薄膜样品。傅立叶变换红外吸收（FTIR）对制备薄膜进行了结构方面的测试分析。结果表明：随着衬底温度的升高,材料的微结构因子（R）逐渐增大,薄膜中氧含量也逐渐增加；同高衬底温度相比,低温（170℃）制备的材料易于后氧化，这说明低温制备材料的稳定性不好。

关键词： VHF-PECVD 微晶硅薄膜 傅立叶变换红外吸收 衬底温度 薄膜结构

作者: 张晓丹 熊绍珍 赵颖 高艳涛 朱锋 魏长春 孙建 周子彬 侯国付 耿新华

作者单位: 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071 南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071 光电信息技术科学教育部重点实验室（南开大学,天津大学）,天津,300071

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛

会议地点: 深圳

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）