火焰水解法制备掺锗二氧化硅膜的光致折变研究

摘要：

本文研究了火焰水解法制备的掺锗二氧化硅膜在 KrF 紫外激光下曝光后的结构和光学性质的变化。经过 10 分钟的照射后，在 1550nm 处的折射率变化大约为 3.41×10-3。采用原子力显微镜分析了曝光过程及膜的表面形貌，随着曝光时间的增长，膜的致密性增加，表面粗糙度下降，折射率增大。

关键词： 锗硅 火焰水解法 KrF激光 折射率 光致折变

作者: 张乐天 侯勇 李爱武 郑伟 张玉书

作者单位: 吉林大学集成光电子学国家重点联合实验室,长春,1300232

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国光子学大会

会议地点: 黄山

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）