CVD金刚石膜的光学特性研究及其应用

摘要：

本文利用热丝化学气相沉积法在硅衬底上生长金刚石薄膜，在生长过程中对其工艺条件进行了很好的控制。利用拉曼光谱、扫描电镜、傅立叶变换红外分光光度计对薄膜进行了测试，经研究发现，在所选定的条件下，生长的金刚石膜透射率较高。

关键词： 金刚石膜 透射率 化学气相沉积 光学特性 薄膜生长

作者: 梁继然 常明 熊瑛 潘鹏

作者单位: 天津理工大学光电信息与电子信息科学系

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国光子学大会

会议地点: 黄山

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）