X射线超反射镜的设计与制备
本文介绍了一种可用于X 射线成像望远镜中的高能X 射线反射元件--X 射线超反射镜的设计方法和制备结果。首先，本文结合Spiller 和Yamamoto 的选择膜层材料的方法选择了W、C 作为多层膜超反射镜的膜层材料对。其次，利用周期多层膜的反射率峰值与膜对数的关系曲线，确定超反射镜的膜对数并利用Yamshita 的设计方法给出了超反射镜的初始膜系。再次，使用单纯形调优算法，从周期膜堆叠加的初始膜系出发，经过优化计算，设计的宽波段X 射线超反射镜，在掠入射角为8.7mrad 时，对波长范围在0.0475~0.0886nm 范围内的X 射线计算反射率达21﹪。最后，简单讨论了多层膜表界面粗糙度和膜层材料之间的相互扩散对多层膜反射率的影响，并利用Spiller 改进的模拟因子计算了多层膜超反射镜的实际光学性能，并通过进一步优化多层膜结构，部分弥补了界面粗糙度对反射率的影响。根据设计结果，本文采用高精度磁控溅射方法，制备出了宽波段X 射线超反射镜，其在8.7~15.7mrad 掠入射角度范围内，测量反射率达15﹪左右。
磁控溅射 X射线超反射镜 优化设计 制备方法 多层膜
王风丽 张众 吴文娟 秦树基 王占山 陈玲燕
同济大学精密光学技术研究所物理系,上海200092
国内会议
杭州
中文
2004-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）