应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究

摘要：

介绍了以K9 玻璃为基体材料MOEMS 器件的湿法刻蚀工艺。选择了光刻胶，铬，氮化硅，ITO 等多种材料作为基底材料抗腐蚀的掩膜，利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验，研究了刻蚀环境温度对保护膜的影响。对比与分析了多种试验结果并对其适用范围进行了适当的评价。

关键词： 湿法刻蚀工艺 掩膜 MOEMS器件 光刻胶 刻蚀剂

作者: 黄腾超 沈亦兵 陈海星 娄迪 侯西云

作者单位: 浙江大学现代光学与仪器国家重点实验室,浙江杭州310027

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国光学学会2004年学术大会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）