微米宽度的反应离子刻蚀氧化铝薄膜研究

摘要：

Er3+掺杂Al2O3/SiO2/Si光波导薄膜采用热氧化法在Si(100)表面制备SiO2,溶胶-凝胶法提拉制备Er3+掺杂Al2O3.利用复合的射频等离子体刻蚀技术,以BCl3为工作气体,在工作气压1～10 Pa 下,刻蚀Er3+: Al2O3/SiO2/Si光波导薄膜.获得了线宽为2.0～3.0m,深度为300～600nm 的刻蚀结果,制备出脊状平面Er3+: Al2O3/SiO2/Si光波导.

关键词： 等离子体刻蚀 平面光波导 氧化铝薄膜 波导薄膜 热氧化法

作者: 雷明凯 王辉 朱振华 王兴军

作者单位: 大连理工大学材料科学与工程学院,大连,116024

会议类型: 国内会议

会议名称: 2005年中国机械工程学会年会

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 1223-1226

在线出版日期: 2005-11-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）