RTP对磷在硅中扩散的影响
本文研究了太阳电池发射极制造过程中,快速热处理(RTP)对磷在硅中扩散的影响。扩展电阻和方块电阻测试结果显示,950℃和1100℃下,短时间的RTP 处理得到了在常规热处理条件下长时间才能得到的pn 结结深,说明RTP 对磷扩散有明显的促进作用。不同扩散时间、扩散温度下得到的数据比较显示,扩散时间越长,扩散温度越高,pn结就越深。这和扩散的传统理论是一致的。
热处理 磷扩散 太阳电池 发射极
花聚团 杨德仁 席珍强 樊瑞新 阙端麟
浙江大学硅材料国家重点实验室 杭州310027
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2004-11-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)