大视场投影光刻物镜的畸变特性检测

摘要：

畸变特性是光刻物镜的关键指标，目前少有报道，本文提出了一种大视场投影光刻物镜畸变测量原理，测量系统和测量数据的处理方法。利用该装置对研制的口径6 英寸，分辨率3um 的物镜进行了测量，得出该物镜在全视场的畸变值小于2.0um。

关键词： 光刻 畸变检测 畸变特性

作者: 马韬 沈亦兵

作者单位: 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州310027

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国光学学会2004年学术大会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）