快速热退火前后ZnO及ZnO/Al薄膜性质的研究

摘要：

本实验中ZnO 及ZnO/Al 薄膜用直流反应磁控溅射法制备。靶选用金属Zn 及金属合金Zn/Al 靶。经快速热退火（RTA）后，通过XRD，UV-VIS-NIR 分光光度计、四探针测方块电阻等研究了经不同温度RTA 后ZnO 及ZnO/Al薄膜的结晶状况、方块电阻、电阻率、可见光透过率等的变化。同时，对传统热退火和RTA 进行了比较。

关键词： 直流反应磁控溅射 快速热退火 传统热退火

作者: 王海燕 段启亮 陈泳生 靳瑞敏 杨仕娥 卢景霄

作者单位: 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室 450052

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛

会议地点: 深圳

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）