N+离子注入ZnO薄膜表面性质的变化

摘要：

本实验采用N+离子注入ZnO 薄膜，ZnO 薄膜用直流反应磁控溅射法制备。经快速热处理（RTP）后，通过XRD，AFM，UV-VIS-NIR 分光光度计等比较了N+离子注入后ZnO 薄膜的电阻率，导电类型，表面形貌，可见光透过率等的变化。

关键词： 直流反应磁控溅射 离子注入 p 型掺杂 快速热处理

作者: 王海燕 段启亮 陈泳生 靳瑞敏 杨仕娥 卢景霄

作者单位: 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室 450052

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛

会议地点: 深圳

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）