立轴精密平面磨削纳米结构WC/12Co涂层的材料去除机理的研究
本文应用扫描电镜(SEM)对立轴精密平面磨削纳米结构WC/12Co(n-WC/12Co)涂层磨削表面/亚表面形貌进行观察和分析,结合对n-WC/12Co 涂层精密磨削的单颗磨粒磨削力、磨削力分力比、比磨削能、磨削表面粗糙度的磨削实验结果的分析,揭示了n-WC/12Co 涂层精密磨削的材料去除机理.研究表明,在大多数磨削条件下,n-WC/12Co 磨削的材料去除机理主要是非弹性变形方式,以塑性变形为主,伴随一定的材料粉末化,材料脆性碎裂去除方式极少.其研究结论对纳米结构WC/12Co 涂层的工业化应用具有重要的理论和实用价值.
纳米结构 WC/12Co涂层 精密磨削 材料去除机理 非弹性变形 SEM观察
邓朝晖 张璧 孙宗禹
湖南大学机械与汽车工程学院,长沙,410082
国内会议
重庆
中文
334-339
2005-11-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）