全反射X荧光光谱分析技术的特点及应用

摘要：

本文简要介绍了全反射X荧光光谱技术的结构、原理和特点,并在与其他类似功能的仪器比较的基础上,阐述了该技术的特点和优势.综述了该技术目前在一些领域内的应用,并在此基础上对其应用前景进行预测.

关键词： 全反射X荧光光谱 检出限 几何结构 ICP

作者: 钟振前 王晓辉 经海 杨敬巍 杨植岗

作者单位: 钢铁研究总院测试所,北京,100081

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国金属学会第十三届分析测试学术年会——冶金及材料分析测试学术报告会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 421-424

在线出版日期: 2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）