会议专题

690nm滤光片的研制

离子辅助镀膜是帮助得到稳定可靠薄膜的有效工艺方法.通过试验表明,在制备滤光片的过程中,离子源参数的不同,直接影响到了制备出的滤光片半宽的改变.因此为了制备性能良好的滤光片产品,必须保证在镀制过程中,离子源功率的稳定.

离子源 滤光片 光学薄膜

李大琪 章卫祖 陈刚 刘定权

中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083

国内会议

全国十五届十三省光学学会学术大会

太原

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151-155

2006-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)