ZnO薄膜PLD过程的机理及实验研究

摘要：

讨论脉冲激光沉积原理,利用PLD在Si(001)衬底上生长ZnO薄膜,利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM)等测试手段研究了不同衬底温度所生长的ZnO薄膜结构特征和性能.研究表明:衬底温度影响ZnO薄膜结构和性能.在500℃～600℃沉积范围内随着温度升高,ZnO薄膜结构和性能提高.

关键词： 薄膜结构 脉冲激光沉积 衬底温度

作者: 柯强 吕珂 叶志清 罗海梅 王一凡

作者单位: 江西师范大学物理与通信电子学院,南昌,330022 江西省光电子与通信重点实验室,南昌,330022

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国十五届十三省光学学会学术大会

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 1-3

在线出版日期: 2006-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）