一种薄膜中织构、残余应力和结构的X-射线组合分析方法

摘要：

本文通过分析论证：一种将新颖的织构和残余应力方法整合入Rietveld方法,再与反射分析结合的完全分析方法已经发展起来.这种完全分析具有以下几个优点:反射得到的厚度可用于修正衍射谱,相分析有助于层的鉴定并确定反射的电子密度图;定量相和残余应力分析必须的定量织构数据;晶体结构鉴定又可完善前面的分析.有可能将它们整合入Rietveld法,即对谱线的全谱拟合.这些谱的测量需要一种特殊的反射/衍射仪,配置细平行光束(用于反射)和织构/应力测角仪及大弯曲位敏检测器.这种新型衍射/反射X-射线仪已被用于组合分析法测定.本文给出一些实例来表明用此种方法分析的可行性.

关键词： 薄膜 晶体结构 X射线衍射

作者: L.Lutterotti 北京纳克分析仪器有限公司

作者单位: 特兰托大学微电子材料系,Ⅰ-38050,意大利

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国X-射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 464-468

在线出版日期: 2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）