电沉积铜薄膜中内应力与织构特征

摘要：

本文研究了利用X射线衍射方法分析了电沉积铜薄膜的内应力及其织构特征.结果表明,随薄膜厚度的增加,薄膜内应力增大;当厚度超过10 μ m时,薄膜内应力增幅减缓.另外,电沉积铜薄膜具有较强的(220)丝织构,随着铜薄膜内应力的增加(220)丝织构增强,同时叠加有板织构的特征.基于晶体应变能各向异性可以解释,随着薄膜内应力的增加,应变能对铜薄膜织构形成的影响越大.丝织构金属薄膜进一步形成板织构的驱动力来自于薄膜晶体不同取向应变能的差异.

关键词： 电沉积铜薄膜 铜薄膜 金属薄膜 薄膜晶体

作者: 洪波 姜传海 王新建 吴建生

作者单位: 上海交通大学材料科学与工程学院,上海,200240

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国X-射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 117-121

在线出版日期: 2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）