新型红外Ge1-xCx膜制备、微结构及力学性能研究

摘要：

本文利用等离子体化学气相沉积的方法(PECVD)在ZnS基底上制备了组织成分可调(x值可调)的Ge1-xCx过渡层,其折射率随组分x的不同在2～4的范围内变化.对薄膜样品进行了X射线衍射(XRD)、X射线光电子谱(XPS)、拉曼光谱(Raman)、FTS3000傅立叶红外光谱仪、WS-92涂层附着力划痕试验机、FY-03E型盐雾试验机等分析测试.系统地研究了薄膜与衬底、膜层之间的附着力以及薄膜的抗腐蚀性能.研究表明在ZnS基底上镀制红外Ge1-xCx膜,薄膜与衬底结合良好,并具有优良的抗腐蚀性能和红外光谱特性.

关键词： 红外Ge1-xCx薄膜 微结构 力学性能 抗腐蚀性 PECVD 等离子体化学气相沉积

作者: 闫兰琴 张维佳 丁照崇 金飞 张心强 武美伶 王天民

作者单位: 北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 357-361

在线出版日期: 2006-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）