外加电磁直流磁控溅射法低温沉积ZnO:Al薄膜的研究

摘要：

采用外加电磁线圈直流磁控溅射法低温制备了ZnO:Al透明导电薄膜,研究了不同沉积参数对AZO薄膜电学性能的影响.通过改变外加同轴线圈磁场来改变基片处等离子体密度,并用Langmuir探针进行了测量.研究结果表明:低温沉积(＜100℃)时,增加基片区域等离子体密度可以显著改善AZO薄膜的电阻率及其空间均匀性,同时也改善了表面形貌,并对其机理进行了分析。

关键词： 透明导电薄膜 直流磁控溅射法 电磁线圈 低温沉积 电阻率

作者: 张小波 裴志亮 肖金泉 宫骏 孙超

作者单位: 中国科学院金属研究所材料表面工程研究部,沈阳,110016

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 337-341

在线出版日期: 2006-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）