聚碳硅烷薄膜的制备与化学均匀性分析

摘要：

分别采用KBr盐片、单晶硅片作基材,二甲苯、四氢呋喃、环己烷作溶剂,配制不同浓度的溶液,用手工涂刷、离心旋转、浸渍等方法制备聚碳硅烷薄膜.利用红外光谱对制备的PCS薄膜的化学均匀性进行分析,发现用二甲苯溶液,在Si片上离心旋转制备的PCS薄膜的均匀性较好。

关键词： 聚碳硅烷薄膜 化学结构 化学均匀性 单晶硅片 红外光谱

作者: 胡伟娜 斯永敏 赫荣安

作者单位: 国防科技大学航天与材料工程学院CFC国防重点实验室,长沙,410073

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 259-263

在线出版日期: 2006-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）