六硼化镧薄膜的制备及其物理特性表征

摘要：

采用LaB6陶瓷靶,在氩气气氛下利用直流磁控溅射制备玻璃基底的LaB6薄膜.利用X射线衍射、台阶仪、四探针电阻测试仪和红外发射率测量仪等测试手段对样品进行表征,研究基底温度、溅射功率对LaB6薄膜的晶体结构、导电性能及表面红外发射率等物理特性的影响,优化制备LaB6薄膜的工艺条件.

关键词： 磁控溅射 六硼化镧薄膜 导电薄膜 红外发射率

作者: 王丽玲 刁训刚 舒远杰

作者单位: 北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心,北京,100083 中国工程物理研究院化工材料研究所,四川绵阳,621900

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006北京国际材料周暨中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 250-254

在线出版日期: 2006-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）