辉光放电光谱仪技术进展

摘要：

随着技术的发展与进步,辉光放电发射光谱仪(GD-OES)的功能也在不断的丰富和扩展,其性能日臻完善,是材料(导体或非导体)表面和逐层分析的理想方法,可以研究材料表面至几百微米深的组成分布,典型的深度分辨率是2-10 nm.这种技术在各种材料工业上的分析应用对材料的质量控制、改进材料的性能有着重要的作用.应用领域包括半导体工业、汽车工业、钢铁工业、玻璃、陶瓷材料和建筑材料工业等。本文介绍 辉光放电光谱仪技术进展。

关键词： 辉光放电光谱仪 材料表面分析 逐层分析 材料质量控制 辉光光源 光学系统

作者: 裴雷

作者单位: 法国JY公司北京代表处

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国金属学会第十三届分析测试学术年会——冶金及材料分析测试学术报告会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 657-659

在线出版日期: 2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）