会议专题

碳化物超细粉的正电子湮没和高分辩电镜研究

正电子在球磨后TiC粉末中同时发生界面捕获态和晶内自由态两种湮没方式,但随着球磨时间增加,界面捕获态湮没发生几率增加,晶内自由态湮没发生几率减少;同时第二类缺陷尺寸增大,数量增多;但过长时间的球磨会使第二类缺陷尺寸增大幅度有所减小.在球磨TiC粉末中用高分辨电镜观察到了尺度为1nm量级的形变畴,并存在堆垛层错、晶格畸变等缺陷.

碳化钛粉末 碳化物超细粉 正电子湮没

梅志 熊惟皓 胡耀波 崔崑

华中理工大学模具技术国家重点实验室,武汉,430074

国内会议

第一届国际模具技术会议

北京

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234-239

2000-07-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)