离子束辅助沉积薄膜工艺

摘要：

文中阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;通过分析离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了离子束辅助沉积薄膜工艺选择的相应准则.

关键词： 离子束清洗 薄膜沉积工艺 离子束辅助沉积

作者: 王利 程鑫彬 王占山 唐骐 范滨

作者单位: 同济大学,物理系,上海,200092 株式会社光驰,日本,竹野,50-0801

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年国际光学薄膜技术及其应用研讨会

会议地点: 苏州

会议语种:中文

页码: 94-97

在线出版日期: 2007-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）