直流磁控溅射制备两英寸YBCO双面超导薄膜

摘要：

报告了以直流磁控溅射方法在两英寸LaAlO3基片上制备YBCO双面超导薄膜的Tc、Jc和Rs特性.获得的双面YBCO薄膜的厚度大于300nm.研究了双面薄膜的Jc及Tc均匀性,及工艺参数对其影响.结果表明适当降低基片温度、提高Ar/O2混合气体中O2分压可以提高Jc均值,改善均匀性.最高Jc均值可达3.08MA/cm2,且分布均匀.获得了Tc均值大于90K的均匀分布.Rs对两次成膜的工艺参数比较敏感。

关键词： 双面超导薄膜 磁控溅射 工艺参数

作者: 李弢 王霈文 古宏伟 王小平 谢波玮

作者单位: 北京有色金属研究总院超导材料研究中心,北京新街口外大街2号,100088

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国超导薄膜和超导电子器件学术会议

会议地点: 长春

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）