射频磁控溅射沉积ZnO(Mg/Al)薄膜性能研究
利用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备了ZnO(Mg/Al)薄膜.通过改变源气体中氩气和氧气的流量比,以及Mg的含量来控制薄膜中各种成分的不同化学计量比.将样品在空气中退火处理来研究薄膜特性的变化.对ZnO(Mg/Al)薄膜的透射光谱的分析表明,随着氩氧气压强比,退火温度的变化,Mg掺杂的变化,薄膜的透光谱线表明,氧缺陷的增加会使吸收峰红移,镁含量的增加会使吸收峰蓝移.Mg含量的增加会使导电形变差.同时热处理也会改变薄膜的光电特性.用X射线光电子能谱和扫描电镜对薄膜成分和表面形貌进行了分析.
ZnO(Mg/Al)薄膜 透射率 磁控溅射 X射线光电子能谱(XPS)
王鹏 蒋昌忠 任峰 范丽霞
武汉大学,物理科学与技术学院,湖北,武汉,430072
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2006-10-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）