覆膜浸渍钡钨阴极离子斑扫描电镜分析

摘要：

采用扫描电镜及X射线能谱仪对覆膜阴极的离子斑进行了分析.分析表明,覆膜阴极离子斑的中心部分表面粗糙,原覆膜(Os膜)已被完全溅射掉,裸露出的钨颗粒相互间的连接变得十分松散;离子斑周边原覆膜(Os膜)仍保留一部分,但Ba和O的含量极低.进一步分析表明,离子轰击不仅使离子斑区域贵金属膜受损,同时使该区域Ba-O键的含量大幅度降低,从而导致该区域及整个阴极的发射出现明显下降.

关键词： 钡钨阴极 覆膜阴极 离子斑 扫描电镜 蒸发 X射线能谱仪

作者: 阴生毅 张洪来 张永清

作者单位: 中国科学院电子学研究所,北京,100080

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 156-158

在线出版日期: 2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）