积气氛对ICPECVD制备硬质类金刚石膜的影响

摘要：

在感应耦合等离子体增强化学气相沉积(ICPECVD)制备硬质类金刚石膜过程中采取CH4-O2和CH4-Ar两种不同的沉积气体体系,研究其对类金刚石膜沉积过程和薄膜性质的影响.分别对沉积得到的类金刚石膜的结构成分和薄膜沉积速率等进行测试,并对薄膜的微观形貌和表面粗糙度作了表征和分析.分析结果表明氧气和氩气的掺入对类金刚石膜沉积过程和薄膜性质有着不同的影响.

关键词： 感应耦合等离子体 化学气相沉积 类金刚石膜 沉积气体 薄膜

作者: 俞世吉 丁振峰 马腾才

作者单位: 中国科学院电子学研究所,北京,100080 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116024

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 140-143

在线出版日期: 2006-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）